應(yīng)用范圍：
一、玻璃：平板玻璃、浮法玻璃、玻璃制品（玻璃罐、玻璃瓶、玻璃管等）、光學(xué)玻璃、玻璃纖維、玻璃儀器、導(dǎo)電玻璃、玻璃布及防射線特種玻璃等的主要原料。
二、陶瓷及耐火材料：瓷器的胚料和釉料，窯爐用高硅磚、普通硅磚以及碳化硅等的原料。
三、建筑：混凝土、膠凝材料、筑路材料、人造大理石、水泥物理性能檢驗材料（即水泥標(biāo)準(zhǔn)砂）等
四、化工：硅化合物和水玻璃等的原料，硫酸塔的填充物，無定形二氧化硅微粉
五、機(jī)械：鑄造型砂的主要原料，研磨材料（噴砂、硬研磨紙、砂紙、砂布等）
六、電子：高純度金屬硅、通訊用光纖等
七、橡膠、塑料：填料（可提高耐磨性）
八、涂料：填料（可提高涂料的耐候性）。
九、冶金：硅金屬、硅鐵合金和硅鋁合金等的原料或添加劑、熔劑 。
十、航空、航天：其內(nèi)在分子鏈結(jié)構(gòu)、晶體形狀和晶格變化規(guī)律，使其具有的耐高溫、熱膨脹系數(shù)小、高度絕緣、耐腐蝕、壓電效應(yīng)、諧振效應(yīng)以及其特的光學(xué)特性。
常用包裝為25KG和50KG.
石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式:
1、干法生產(chǎn)石英粉，主要設(shè)備有磕石機(jī)、粉碎機(jī)、振動篩等。其工藝流程為石英石礦料經(jīng)過磕石機(jī)加工成較小石料，石料再經(jīng)過粉碎機(jī)加工砂粒，然后經(jīng)過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。
2、水法生產(chǎn)石英粉，主要設(shè)備有磕石機(jī)、石碾、烤房、振動篩、水路系統(tǒng)等。
其工藝流程大致如下：石英石礦料經(jīng)過磕石機(jī)加工成較小石料，石料再經(jīng)過石碾碾壓成砂粒，碾壓時不停的加水，水帶著砂粒流入沉淀池內(nèi)，再把沉淀池內(nèi)的砂粒運入烤房烘烤成干砂粒，然后再經(jīng)過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。
膠水填充料用的石英粉可以依照結(jié)晶與否，分成結(jié)晶型石英粉（CAS：14464-46-1）與非結(jié)晶型（不定型）石英粉（CAS：60676-86-0）。前者價格較低，導(dǎo)熱系數(shù)較高；后者熱膨脹系數(shù)較低，尺寸安定性較佳。結(jié)晶型石英粉大多是從天然的石英礦中開采獲得的；非結(jié)晶型（不定型）石英粉是將結(jié)晶型石英粉在高溫中融化，再快速降溫淬火所得到的，所以又稱為熔融型石英粉。這兩種石英粉又會因為形狀的不同而有不規(guī)則狀或者是球狀等種類。前者吸油量較大，具有抗龜裂特性；后者吸油量較低，能夠獲得很大的填充量。
超細(xì)石英粉可以達(dá)到3000目，國內(nèi)少數(shù)幾家生產(chǎn)，此類產(chǎn)品應(yīng)用基本都屬于精細(xì)化工，屬于戰(zhàn)略資源。石英粉具體介紹如下：
由高純石英粉經(jīng)的超細(xì)研磨工藝加工而成的產(chǎn)品我們一般稱之為硅微粉，也可稱為超細(xì)石英粉,是用途極為廣泛的無機(jī)非金屬材料.具有介電性能、熱膨脹系數(shù)低、導(dǎo)熱系數(shù)高、懸浮性能好等優(yōu)點.因其具有優(yōu)良的物理性能、的化學(xué)穩(wěn)定性、特的光學(xué)性質(zhì)及合理、可控的粒度分布。
硅微粉是由天然石英（SiO2）或熔融石英（天然石英經(jīng)高溫熔融、冷卻后的非晶態(tài)SiO2）經(jīng)破碎、球磨（或振動、氣流磨）、浮選、酸洗提純、高純水處理等多道工藝加工而成的微粉。
微硅粉的生產(chǎn)方法主要有：
，三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中，與通入的干燥氯化氫氣體在280～330℃有氯化亞銅催化劑存在下進(jìn)行氯化反應(yīng)，反應(yīng)氣體經(jīng)旋風(fēng)分離除去雜質(zhì)，再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體，經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝，除去高沸物和低沸物，再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝，得到精制三氯氫硅液體。純度達(dá)到7個“9”以上、雜質(zhì)含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內(nèi)，用超純氫氣作還原劑，在1050～1100℃還原成硅，并以硅芯棒為載體，沉積而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進(jìn)行重結(jié)晶，用酸除去雜質(zhì)，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導(dǎo)體用硅，還要將其轉(zhuǎn)化成易于提純的液體或氣體形式，再經(jīng)蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進(jìn)行進(jìn)一步的提純處理。
第三， 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA開式電弧爐，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。
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